2次元複折射評估系統 PA-100基本原理 複 折 射 分 佈 的 測 量 原 理 複折射 ■ 強力內部應力或扭曲的結晶構造等原因造成折射率因方向不同所表現的數值差異。 稱為複折射。 ■ 具有複折射性質的物質，有使穿透的光線的偏光狀態變化的特徵，在液晶面板或光碟等等已被廣泛應用。 另外，亦有利用在內部應力的評估上。 ■ 但因一般的複折射測量需要耗費時間，需測量面分佈的狀況，僅以測量數點等等方式代替。 PA-110可以簡單的操作進行高速複折射的面分佈測量。因此可進行試料的全數・全面測量。 高速的複屈折面分布測量 ■ 實現高速的複折射面分佈測量，活用了兩項專門技術。 【技術1】 頭部內藏的偏光影像感應器 與偏光攝影機PI-110相同的感應器，可將偏光的面分布影像畫瞬間拍攝。 【技術2】 高速的偏光測量演算法 於各畫素進行高度偏光計算的超高速處理軟體，初次實現高速的複折射測量 操作簡單！ ■ 首先於未放置測量物的狀態拍攝光源。 接著放置試料，只要按下測量按鈕即可測量試料的全面複折射分布。
